射頻電源的頻率與等離子體能量，密度的關(guān)系？

知識(shí)星球（星球名：芯片制造與封測(cè)技術(shù)社區(qū)，星球號(hào)：63559049）里的學(xué)員問(wèn)：等離子刻蝕機(jī)臺(tái)的頻率有13.56MHz，2.45GHz等，頻率的大小的不同會(huì)對(duì)造成什么影響？該怎么選用。

射頻電源的作用？

射頻電源主要用于PECVD、HDPCVD、PEALD、干法刻蝕、去膠、PVD、干法清洗等設(shè)備中，起到激發(fā)等 離子體、選擇刻蝕方向等作用。

射頻電源有哪些常見(jiàn)頻率？

13.56MHz，2.45GHz，40-100KHz，2MHz其中，13.56MHz是半導(dǎo)體設(shè)備最常見(jiàn)的頻率。

頻率與離子能量，密度的關(guān)系？

如圖所示：頻率越高，離子能量一般越低，密度越大；頻率越低，離子能量一般越高，密度越小。

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