群賢畢至，共襄盛會——IWAPS 2025誠邀投稿！

第九屆國際先進光刻技術(shù)研討會

（IWAPS 2025）

IWAPS 2025?

第九屆國際先進光刻技術(shù)研討會（IWAPS）將于10月14-15日在深圳隆重舉行！本次研討會由中國集成電路創(chuàng)新聯(lián)盟、中國光學學會主辦，中國科學院微電子研究所、深圳市半導(dǎo)體與集成電路產(chǎn)業(yè)聯(lián)盟（深芯盟）、南京誠芯集成電路技術(shù)研究院有限公司聯(lián)合承辦，誠邀全球業(yè)界精英共赴這場光刻技術(shù)領(lǐng)域的學術(shù)盛宴！國

際先進光刻技術(shù)研討會（IWAPS），依托中國創(chuàng)新沃土，搭建全球交流平臺。在國內(nèi)外光刻專家的鼎力支持下，在全球企業(yè)、高校、協(xié)會等的共同推動下，IWAPS持續(xù)構(gòu)建覆蓋光刻設(shè)備、工藝制程、計量檢測、掩模材料、計算光刻、系統(tǒng)協(xié)同優(yōu)化及新型技術(shù)等全產(chǎn)業(yè)鏈的尖端技術(shù)對話平臺。

本屆盛會特別依托深芯盟的產(chǎn)業(yè)集群優(yōu)勢，匯聚深圳及灣區(qū)半導(dǎo)體企業(yè)、高校與科研機構(gòu)的協(xié)同力量；同時聯(lián)動灣芯展的產(chǎn)業(yè)生態(tài)資源，為全球領(lǐng)軍企業(yè)提供展示創(chuàng)新藍圖的舞臺，為科研院所搭建核心技術(shù)攻關(guān)的交流通道，為青年學者創(chuàng)造技術(shù)思辨的活躍氛圍，更為投資機構(gòu)提供洞察粵港澳大灣區(qū)半導(dǎo)體機遇的前瞻窗口。

第九屆IWAPS計劃于2025年10月14-15日于深圳舉行請于10月13日報到

歡迎各位學術(shù)和產(chǎn)業(yè)屆的朋友蒞臨指導(dǎo)，積極投稿演講

SPIE（國際光學工程學會）成立于1955年，是一個致力于光學和光電子學的國際專業(yè)組織。總部位于美國華盛頓州貝靈厄姆，SPIE的使命是推進光學和光電子技術(shù)的科學、應(yīng)用、教育和商業(yè)。SPIE每年舉辦多個國際會議和展覽，為科學家、工程師和企業(yè)提供展示最新研究成果和技術(shù)的平臺。此外，SPIE Digital Library是全球最大的光學和光電子學文獻數(shù)據(jù)庫之一，提供了豐富的學術(shù)期刊、會議論文集和書籍，覆蓋光學、光電子學、激光技術(shù)、生物醫(yī)學光學等領(lǐng)域。這些資源和活動不僅促進了全球光學和光電子學的發(fā)展，也推動了創(chuàng)新技術(shù)的應(yīng)用和專業(yè)人才的培養(yǎng)。

本屆IWAPS接收論文將被送檢SPIE Digital Library及EI。歡迎大家踴躍報名！

-征稿范圍-

i. Optical Lithographyii. Emerging Patterning Technologiesiii. Metrology, Inspection and Testingiv. Computational Lithographyv. Design and Technology Co-optimization and Design for Manufacturabilityvi. Materialsvii. Process

-征稿要求-

摘要要求

摘要必須清楚地描述論文的性質(zhì)、研究主題、研究內(nèi)容、組織結(jié)構(gòu)、要點以及研究意義。且用英文撰寫。

摘要必須包括以下內(nèi)容：論文標題、關(guān)鍵詞、作者的姓名、所屬單位、郵件地址和通訊地址。摘要的字數(shù)不應(yīng)超過500個單詞。對研究內(nèi)容的細節(jié)的描述將增加稿件被接收的可能。同時，我們強烈建議在提交的摘要中使用圖表。

摘要截至日期：2025年7月31日

摘要提交郵箱：iwaps_program@ime.ac.cn

摘要錄用通知日期：2025年8月21日

全文要求

論文摘要被接收后，作者需要按照全文模板的要求提交最終論文。論文全文模板參考SPIE會議標準模板。論文投稿方式待系統(tǒng)開通后公布（將使用SPIE投稿系統(tǒng)，請務(wù)必注意時間節(jié)點）。若有問題，歡迎聯(lián)系會務(wù)郵箱：iwaps_program@ime.ac.cn。

本屆會議論文將被送檢SPIE Digital Library及EI，請務(wù)必在截止日期前投稿全文，否則不予送檢，請嚴格參考模板格式。

全文提交截止日期 2025年9月30日